Dongguan Haikun New Material Co., Ltd.
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ホーム > 製品情報 > その他の資料 > 窒化アルミニウムセラミック > DC RFマイクロ波回路窒化アルミニウムセラミック基板
Mr. Watson Lin
モデル: AIN-007
ブランド: ハード
包装: カスタマイズされた
輸送方法: Ocean,Land,Air
原産地: 中国広東省
についてのサポート: 1,000,000 pcs/Month
認証 : SGS
ポート: Shenzhen
お支払い方法の種類: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
インコタームズ: FOB
DC RFマイクロ波回路窒化アルミニウムセラミック基板
評判は品質に依存します、品質はハードから来ます!
窒化アルミニウムセラミック:
窒化アルミニウムは硬度が高く、伝統的なアルミナを上回ります。それは新しいタイプの耐摩耗性セラミック材料です、しかし、それはその高いコストのためにひどく磨耗した部品のために使われることができるだけです。 耐熱性、耐メルトエロージョン性および耐熱衝撃性にAlNセラミックスを使用すること、GaAs結晶るつぼ、Al蒸発皿、磁性流体発電装置および高温タービン耐食性部品を製造することができ、その光学特性を赤外線窓として使用することができる。窒化アルミニウム膜は、高周波圧電素子、超大規模集積回路基板等とすることができる。 窒化アルミニウムは耐熱性があり、溶湯の浸食に強く、酸には安定ですがアルカリ溶液に浸食されやすいです。 AlNの新しい表面は湿った空気にさらされ、反応して非常に薄い酸化膜を形成する。この性質を利用することにより、アルミニウム、銅、銀、鉛などの金属を製錬するためのるつぼおよびダイカスト鋳型材料として使用することができる。 AlNセラミックは良好なメタライゼーション特性を有しており、有毒な酸化セリウムの代わりとしてエレクトロニクス産業において広く使用することができる。
データシート:
Ø(1)BeOおよびSiCに近い、Al 2 O 3の5倍を超える高い熱伝導率(約320 W / m・K)。 Ø(2)熱膨張係数(4.5×10-6℃)はSi(3.5-4×10-6℃)およびGaAs(6×10-6℃)と一致します。 Ø(3)優れた電気特性(誘電率、誘電損失、体積抵抗率、絶縁耐力)。 Ø(4)Al 2 O 3およびBeOセラミックスよりも優れた機械的特性、高い曲げ強度が常圧で焼結できます。 Ø(5)良好な光伝送特性。 Ø(6)無毒。
アプリケーション業界 :
窒化アルミニウム粉末は、高純度、小粒径および高活性を有し、高熱伝導率窒化アルミニウムセラミック基板を製造するための主原料である。 窒化アルミニウムセラミック基板、高熱伝導率、低膨張係数、高強度、耐高温性、耐薬品性、高抵抗率、低誘電損失は、理想的な大規模集積回路ヒートシンク基板および包装材料です。
7.MOQは限られていません、少しは歓迎されています。
8.精力的なチームおよびよい売り上げ後のサービス
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よくある質問
Q:あなたは商社または製造業者ですか? A:私達は工場です。 Q:納期はどのくらいですか? A:商品が在庫がある場合、通常5-10日です。または商品が在庫がない場合、それは15-30日です、それは数量に応じてです。 Q:サンプルはありますか?無料ですか、それとも追加ですか。 A:はい、サンプルは無料で提供できますが、運賃は支払わないでください。 Q:あなたの支払い条件は何ですか? A:支払<= 1000USD、100%前払い。支払> = 1000USD、前もって50%T / T、shippmentの前のバランス。
製品グループ : その他の資料 > 窒化アルミニウムセラミック
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